鋁及鋁合金的陽極氧化工藝過程可分為：表面前處理、陽極氧發色處理化、著色處理(非裝飾性制品可不進行著色)及封閉處理。 (1)硫酸陽極氧化工藝 普通硫酸陽極氧化可獲得厚度為5～20μm、吸附性較好的膜層，該法的槽電壓低、維護方便，節約能源、成本較低，允許雜質含量範圍較寬。它主要用於鋁件的防護和裝飾。 但不適用於孔大的鑄鋁件、點焊和鉚接組合件。常用的有直流電解和交流電解兩種工藝，直流法采用硫酸100～200gL，陽極電流密度為0。8～1。5A/dm2，溫度為l5～25℃，電壓l0～25V，時間20～40min；交流法采用硫酸l0%～20%，陽極電流密度為1～3A/dm2，溫度為20℃，電壓20～50V，時間20～40min。 (2)硬質陽極氧化 硬質陽極氧化又稱厚層陽極氧化，氧化膜的厚度可達250μm。膜層具有硬度大、耐磨、絕緣、耐熱、耐蝕等特點。表7—2列出硬質氧化膜與普通氧化膜特征比較。獲得硬質陽極氧化膜可采用的電解液很多，常用的有硫酸、草酸、丙二酸、蘋果酸、磺基水楊酸等。 常用直流電源，還可采用交流、直流疊加及各種脈衝電流。為了得到硬度高、膜層厚的氧化膜，在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌及較低的溫度，一般保持在一5～+10℃範圍內。表7—3列出硬質陽極氧化工藝規範。 氬焊機,pos,pos系統,powder metal,sintered metal]